O ácido fluorídrico (HF) é um líquido ou gás incolor conhecido por sua extrema corrosividade. Composto por flúor e hidrogênio, é solúvel em água, liberando uma quantidade significativa de calor após a dissolução para formar soluções aquosas de ácido fluorídrico. O ácido fluorídrico é único na sua capacidade de corroer vidro e metais e pode reagir com muitas substâncias orgânicas e inorgânicas.
Industrialmente, o ácido fluorídrico é amplamente utilizado no refino de petróleo, na produção farmacêutica, na síntese de substâncias inorgânicas de alta pureza e compostos fluorados orgânicos e na gravação de vidro. Sua reatividade com o silício o torna indispensável na fabricação de semicondutores e nos processos de limpeza de vidros.
O ácido fluorídrico pode ser formado pela reação direta de hidrogênio e gases de flúor sob condições específicas, ou pela reação de fluoreto de cálcio (CaF2) com ácido sulfúrico concentrado (H2SO4) mediante aquecimento. No último método, a reação produz ácido fluorídrico gasoso e precipitado de sulfato de cálcio, e o ácido fluorídrico gasoso pode então ser dissolvido em água para formar uma solução aquosa de ácido fluorídrico.
| Gas | Ácido fluorídrico (HF) |
| CAS | 7664-39-3 |
| Pureza | ≥% 99.99 |
Usado para limpar wafers de silício e gravar silício para formar padrões de microcircuitos na indústria de fabricação de semicondutores
Empregado para gravar vidro, criando itens decorativos e componentes de vidro para instrumentos de precisão.
Atua como reagente na preparação de fluorcompostos orgânicos e inorgânicos.
Utilizado para remover impurezas não fluoradas durante o processo de refino.
Usado para remover camadas de óxido e outras impurezas de superfícies metálicas.
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